美國Eletropure EDI工業型標準型系列EXL電去離子裝置的介紹

更新時間：2024-07-01

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美國Eletropure EDI工業型標準型系列EXL電去離子裝置的介紹

應用領域

鋼鐵、冶金
電力、熱力
石油、化工
光伏、新能源
電子、半導體

高壽命EDI離子膜；
無需化學試劑用于樹脂再生；
SnowPure自主研制的高性能、高壽命膜；
全的球的先進的樹脂包技術；
獨的特的極水無結垢設計；
特殊的窄流道技術；
體積小、重量輕和簡單控制的系統結構；
同等條件下單個模塊產水量大；
EDI模塊綜合投資低；
無EDI濃水內循環且不需要加鹽；
不產生酸堿再生廢水、不需要廢水處理設施。

進水水質

技術參數

模塊型號

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進水水源	RO產水直接進入，或者將中間水箱的水用1μm過濾器預先過濾。
當量電導率FCE	<50 μS/cm
pH值	5.0 – 9.5
總CO2	<5 mg/L
總硬度（以CaCO3計）	<1 mg/L （在90%回收率時）
溫度	5.0 ℃ – 40.0 ℃
有機物（TOC）	<0.5 mg/L
變價金屬（Fe、Mn等）	<0.01 mg/L
氧化劑（Cl2、O3類）	檢測不出
顆粒（SDI）	<0.5
活性硅（SiO2）	<0.5 mg/L
硫化物（S–）	<0.01 mg/L
油	檢測不出

產水電阻率（MΩ.cm）	5.0 – 17.5
回收率（%）	90 – 97（3 – 10的濃水和極水可全部回流）
設計電壓（VDC）	0 – 500
操作電流（A）	0.5 – 3.0
設計電流（A）	0 – 6.0
操作壓力（MPa）	0.15 – 0.55
最大壓力（MPa）	0.70
溫度范圍（℃）	5.0 – 35.0
最大溫度（℃）	40.0
最佳進水pH	7.0 – 7.5
進水pH范圍	5.0 – 9.5
硅（SiO2）去除率	99.0% – 99.0%或＜5ppb（取決于進水條件）

型號	EXL-850	EXL-750	EXL-650	EXL-550
設計產水流量（m3/h）	8.0	7.0	5.5	3.5
最大產水流量（m3/h）	12.0	10.0	8.0	6.0
操作電壓（VDC）	300 – 500	200 – 450	200 – 450	200 – 400
設計電壓（VDC）	0 – 500	0 – 500	0 – 500	0 – 500
操作電流（A）	0.5 – 3.0	0.5 – 3.0	0.5 – 3.0	0.5 – 3.0
設計電流（A）	0 – 6.0	0 – 6.0	0 – 6.0	0 – 6.0
運行重量（Kg）	114.0	101.10	89.0	76.0

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